保有技術:溶射以外の表面改質技術PVDプロセス

PVD法の中でも付廻り性や密着性に優れるイオンプレーティング法を採用しています。加工温度域の選択幅が広く、加工対象物の材質に応じて最適の処理が選択できるので、熱による形状変化を最小限に抑えることができます。量産品の加工にも適しています。

PVDプロセス

PVDプロセス図

皮膜材料をガス化し、プラズマ中で反応性ガスとイオン化。ワークに印刷されたバイアス電源(負の電圧)によってイオンを誘引し、皮膜を形成する。

PVD製品案内

https://www.jcc-coating.co.jp/products/(子会社サイトへリンクしています)

お電話でのお問い合わせ

078-303-3433

営業時間 8:30〜17:00(土日祝休み)

フォームでのお問い合わせ

会社カタログのダウンロード